美国商务部长霍华德·卢特尼克近日告知 ASML 高管，政府掌握证据显示该公司最先进的极紫外（EUV）光刻机可能已进入中国境内。这将直接违反自特朗普第一任期以来对华禁售 EUV 的出口管制。ASML 方面否认存在任何此类设备，并表示从未向中国交付过 EUV 系统。
EUV 光刻机是全球唯一能制造最先进半导体芯片的设备，直接关系到 AI 训练和推理芯片的产能。美方此举旨在收紧对前沿 AI 硬件供应链的控制，但目前尚未公开具体证据，ASML 也未收到正式书面通知。
这一事件发生在美中 AI 军备竞赛持续升级的背景下。此前美国已通过多轮实体清单和出口限制，试图延缓中国在高端芯片领域的追赶。若传闻属实，将对全球 AI 基础设施布局产生连锁影响，并可能引发 ASML 与美政府的进一步摩擦。
相比单纯的模型出口管制，此次焦点转向实际硬件走私，显示监管正从软件层面向物理供应链延伸。下一步值得关注美方是否会扩大对荷兰供应商的审查，以及 ASML 如何在合规与商业利益间平衡。
信源：https://techcrunch.com/2026/06/19/the-us-says-asmls-top-chip-tool-may-be-in-china-asml-says-it-isnt/